赫爾納供應德國technologiemanufaktur元件赫爾納供應德國technologiemanufaktur元件

赫爾納貿易優(yōu)勢供應,德國總部直接采購，近30年進(jìn)口工業(yè)品經(jīng)驗,原裝產(chǎn)品，為您提供一對一好的解決方案，貨期穩定。

公司簡(jiǎn)介：

我們了解我們的工藝 - 因為我們是技術(shù)制造。 2014年 - 在德國制造

technologie manufaktur光學(xué)元件主要產(chǎn)品：

technologie manufaktur光學(xué)元件

technologie manufaktur光學(xué)元件產(chǎn)品特點(diǎn)：

光學(xué)力學(xué)，即現代光學(xué)系統的構建和制造，基于科學(xué)和商業(yè)儀器構造的，需要知識和敏感性。因為構造須啟用高度準確的調整，以便可以將光學(xué)元素在幾微米和拱形分鐘上。

technologie manufaktur光學(xué)元件產(chǎn)品應用：

technologie manufaktur光學(xué)元件

同時(shí)，完成設備中敏感元素的位置不再在操作過(guò)程中更改，并且抵抗溫度波動(dòng)，振動(dòng)和振動(dòng)。光學(xué)原型制作 - 根據基于軟件的設計和仿真以及面包板上的一個(gè)功能測試 - technologie manufaktur光學(xué)元件

光學(xué)系統實(shí)際原型的開(kāi)發(fā)階段?，F在，他已經(jīng)須擁有要的機械和電氣接口，以便可以準確測試其功能。在實(shí)驗室和實(shí)際應用中進(jìn)行了一次測試之后，technologie manufaktur光學(xué)元件

通常會(huì )建立二代原型（零序列）（零序列），可以在該原型中進(jìn)行優(yōu)化和更改請求。從現在開(kāi)始，它只是產(chǎn)品的一小步，盡管零系列的產(chǎn)生通常在二個(gè)原型的實(shí)際測試中開(kāi)始。

technologie manufaktur光學(xué)元件

原型技術(shù)制造商的光學(xué)原型，光學(xué)原型，即原型的光學(xué)機械結構及其電子產(chǎn)品的開(kāi)發(fā)，與技術(shù)制造中實(shí)驗室的面包板上的作品平行。因此，我們通常不會(huì )在演示者的構造和原型的完成之間花費太多時(shí)間。

technologie manufaktur光學(xué)元件

我們設備齊全的研討會(huì )使我們能夠快速構建原型，調整它并衡量其性能。通過(guò)這種方式，我們可以對鏡片進(jìn)行MTF測量，從而在透明度上測量光學(xué)元件的表面，并從紫外線(xiàn)到近紅外吸收光譜。我們使用一個(gè)流動(dòng)箱進(jìn)行無(wú)塵的生產(chǎn)。原型所需的是在我們供應商的研討會(huì )上制造的。

technologie manufaktur光學(xué)元件

如果光學(xué)系統要提供的測量結果，則其設備電子設備和軟件。電子元素的有解決方案通常是部分高度特定系統要求的佳方法。用于使用的微處理器的固件編程與設備電子產(chǎn)品的個(gè)別生產(chǎn)密切相關(guān)，并提供了能夠從一開(kāi)始就適應它們的優(yōu)勢。technologie manufaktur光學(xué)元件

在光學(xué)系統的原型成功通過(guò)了功能測試并成功地在應用程序的測試操作中起作用之后，序列的生產(chǎn)開(kāi)始。在大多數情況下，在此階段進(jìn)行的調整甚至是較小的調整，但是，不需要進(jìn)行復雜的測試。

technologie manufaktur光學(xué)元件

在零系列的生產(chǎn)過(guò)程中，測試了所工具和必要的設備，并在必要時(shí)進(jìn)行配置。單個(gè)工作步驟是詳細計劃的，并在生產(chǎn)手冊中進(jìn)行了仔細的記錄。還建立了測試，后來(lái)須通過(guò)每個(gè)完成的光學(xué)設備進(jìn)行測試，并將其結果記錄在接受報告設備。

technologie manufaktur光學(xué)元件

光學(xué)設計是光學(xué)系統開(kāi)發(fā)的一個(gè)也是重要的步驟之一，其中使用軟件設計光學(xué)設備，并分析其后期性能。它并不總是須是復雜的系統：使是合適的目錄Gine也可以顯著(zhù)提高測量設備的性能。

technologie manufaktur光學(xué)元件

在算法的幫助下，優(yōu)化了小扁豆和鏡子的半徑，距離和光學(xué)介質(zhì)。耐受性分析表明，需要在操作過(guò)程中根據光學(xué)標準調整精度的光學(xué)區域具有什么質(zhì)量。這些都是用于光學(xué)機械終構建的不可少的參數。